向著陽光奔跑

輕量級表示協(xié)議Lightweight Presentation Protocol

LPP 是為一類特殊的 ISO 應(yīng)用程序而iso認(rèn)證的，即指在上下文只包含 ACSE 和 ROSE 的應(yīng)用程序?qū)嶓w。此外，應(yīng)用程序?qū)嶓w可以使用 DSE ，但只能局限于一定的范圍以內(nèi)。 LPP 不支持容易擴展的應(yīng)用程序?qū)嶓w（例如，包含可靠傳輸服務(wù)器的單元）。

電漿光源

雷射激勵式電漿光源Laser Produced Plasma

定義

LPP（laser-produced plasma）光源，全稱為激光等離子體光源，一般特指液體微滴噴射靶激光等離子體光源，是一種具有較高的軟X射線轉(zhuǎn)換效率且能夠長期連續(xù)運行的低碎屑光源。在極紫外光刻及輻射計量等領(lǐng)域有著重要應(yīng)用價值和廣闊的發(fā)展前景。

原理

二氧化碳激光脈沖經(jīng)過放大、整形并對焦后，進(jìn)入激光激發(fā)等離子型真空室。激光脈沖非常精準(zhǔn)地?fù)羯湓谟梢簯B(tài)錫滴產(chǎn)生器所產(chǎn)生的液態(tài)錫滴上。具有高度激發(fā)物質(zhì)的等離子前導(dǎo)波在二氧化碳激光脈沖與液態(tài)錫滴作用的區(qū)域輻射出1
3.5nm光子超紫外線。專為1
3.5nm波長所iso認(rèn)證的多層鍍膜反射鏡集光器收集背向輻射光源，并將光源導(dǎo)向位于光源輸出端的中間焦點位置，以做為掃描式光刻機曝光光源。

應(yīng)用

雖然32nm，22/20nm節(jié)點上已經(jīng)基于193nm液浸式光刻系統(tǒng)的雙重成像（double patterning）技術(shù)。但是走向更小節(jié)點時，EUV仍是業(yè)者關(guān)注的焦點。光源是光刻機上最重要的組成部分之一，光源的能量、穩(wěn)定性、壽命等在某種程度上影響著光刻技術(shù)的發(fā)展，光源的質(zhì)量更是舉足輕重的，所以很多大廠家都把EUV光刻的期望寄托在LPP光源上。

LPP在質(zhì)量管理體系中代表什么

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輕量級表示協(xié)議Lightweight Presentation Protocol

LPP 是為一類特殊的 ISO 應(yīng)用程序而iso認(rèn)證的，即指在上下文只包含 ACSE 和 ROSE 的應(yīng)用程序?qū)嶓w。此外，應(yīng)用程序?qū)嶓w可以使用 DSE ，但只能局限于一定的范圍以內(nèi)。 LPP 不支持容易擴展的應(yīng)用程序?qū)嶓w（例如，包含可靠傳輸服務(wù)器的單元）。

電漿光源

雷射激勵式電漿光源Laser Produced Plasma

定義

LPP（laser-produced plasma）光源，全稱為激光等離子體光源，一般特指液體微滴噴射靶激光等離子體光源，是一種具有較高的軟X射線轉(zhuǎn)換效率且能夠長期連續(xù)運行的低碎屑光源。在極紫外光刻及輻射計量等領(lǐng)域有著重要應(yīng)用價值和廣闊的發(fā)展前景。

原理

二氧化碳激光脈沖經(jīng)過放大、整形并對焦后，進(jìn)入激光激發(fā)等離子型真空室。激光脈沖非常精準(zhǔn)地?fù)羯湓谟梢簯B(tài)錫滴產(chǎn)生器所產(chǎn)生的液態(tài)錫滴上。具有高度激發(fā)物質(zhì)的等離子前導(dǎo)波在二氧化碳激光脈沖與液態(tài)錫滴作用的區(qū)域輻射出1
3.5nm光子超紫外線。專為1
3.5nm波長所iso認(rèn)證的多層鍍膜反射鏡集光器收集背向輻射光源，并將光源導(dǎo)向位于光源輸出端的中間焦點位置，以做為掃描式光刻機曝光光源。

應(yīng)用

雖然32nm，22/20nm節(jié)點上已經(jīng)基于193nm液浸式光刻系統(tǒng)的雙重成像（double patterning）技術(shù)。但是走向更小節(jié)點時，EUV仍是業(yè)者關(guān)注的焦點。光源是光刻機上最重要的組成部分之一，光源的能量、穩(wěn)定性、壽命等在某種程度上影響著光刻技術(shù)的發(fā)展，光源的質(zhì)量更是舉足輕重的，所以很多大廠家都把EUV光刻的期望寄托在LPP光源上。